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电化学(中英文) ›› 1997, Vol. 3 ›› Issue (4): 401-407.  doi: 10.61558/2993-074X.2663

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电沉积铜钴纳米多层膜的机理研究

薛江云,吴继勋,杨德钧   

  1. 北京科技大学表面科学与腐蚀工程系
  • 收稿日期:1997-11-28 修回日期:1997-11-28 发布日期:1997-11-28 出版日期:1997-11-28

Mechanism of Electrodeposition of Cu/Co Multilayer Thin Films

Xue Jiangyun* Wu Jixun Yang Dejun   

  1. (Department of Surface Science and Corrosion Engineering University of Science and Technology, Beijing, Beijing 100083)
  • Received:1997-11-28 Revised:1997-11-28 Online:1997-11-28 Published:1997-11-28

关键词: 铜钴合金, 纳米多层膜, 电沉积, 交流阻抗

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