电化学(中英文) ›› 2008, Vol. 14 ›› Issue (1): 66-70. doi: 10.61558/2993-074X.1865
蔡敏真;宋杰;吴启辉;郑明森;吴孙桃;董全峰;
CAI Min-zhen1,SONG Jie2,ZHENG Ming-sen2,WU Qi-hui1,WU Sun-tao3,Dong Quan-Feng2
摘要: 应用射频磁控溅射技术在硅基底上制备氧化锡薄膜,着重研究溅射功率对薄膜结构和电化学性能的影响.XRD,SEM分析及恒电流充放电测试表明,随着溅射功率的增大,薄膜的结晶程度提高;生长速率和晶粒尺寸增大;电池的贮锂容量减少,且首圈不可逆容量损失增大.溅射功率对薄膜的电化学性能有较大的影响.
中图分类号: