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电化学(中英文) ›› 1999, Vol. 5 ›› Issue (3): 342-345.  doi: 10.61558/2993-074X.3195

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硫脲及其衍生物对铜阴极电沉积影响的电化学研究

董云会,邹爱红,赵云霞   

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  • 收稿日期:1999-08-28 修回日期:1999-08-28 发布日期:1999-08-28 出版日期:1999-08-28

Influence of Thiourea and Its Derivate on the Process of Cathodic Electrodeposition of Copper

Dong Yunhui * Zou Aihong ZHao Yunxia   

  1. (Dept. of Materials, Zibo College, Zibo 255200
  • Received:1999-08-28 Revised:1999-08-28 Online:1999-08-28 Published:1999-08-28

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