电化学(中英文) ›› 2013, Vol. 19 ›› Issue (3): 262-266. doi: 10.61558/2993-074X.2958
孙文,樊海涛,张大霄,胡冬洁,周勇亮*
SUN Wen, FAN Hai-tao, ZHANG Da-xiao, HU Dong-jie, ZHOU Yong-liang*
摘要: 电化学刻蚀使用腐蚀性小的电解质溶液,且溶液可使用周期长,是一种环境友好的加工工艺. 本文采用聚丙烯酰胺水凝胶(PAG)作为软印章,辅以优化工艺,将电化学湿印章技术(E-WETS)的加工精度从几十微米提高到了200纳米. 将新配制的聚丙烯酰胺水凝胶浇注在具有纳米结构的软模板表面,固化后脱模并保存于0.2 mol·L-1 KCl溶液中,在合适电位和压力下,对硅片表面金膜进行电化学湿法刻蚀,分别研究了聚丙烯酰胺水凝胶的聚合条件、电化学加工电位以及水凝胶表面压力对加工结果的影响. 实验表明,在最优条件下可加工出直径为200纳米的特征点阵结构,且该方法具有较好的可靠性和稳定性.
中图分类号: