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硫脲及其衍生物对铜阴极电沉积影响的电化学研究
董云会,邹爱红,赵云霞
Influence of Thiourea and Its Derivate on the Process of Cathodic Electrodeposition of Copper
Dong Yunhui * Zou Aihong ZHao Yunxia
电化学（中英文） . 1999, (3): 342 -345 . 

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