电镀及化学镀磁记录介质薄膜的最新进展

电化学（中英文） ›› 1997, Vol. 3 ›› Issue (1): 92-98.

电镀及化学镀磁记录介质薄膜的最新进展

安茂忠,杨哲龙,张景双,屠振密

哈尔滨工业大学应用化学系

收稿日期:1997-02-28 修回日期:1997-02-28 出版日期:1997-02-28 发布日期:1997-02-28

Status of Electroplated and Electroless plated Thin Film Media for Magnetic Recording

An Maozhong Yang Zhelong Zhang Jingshuang Tu Zhenmi

(Dept. of Appl Chem., Harbin Inst. of Techn., Harbin 150001

Received:1997-02-28 Revised:1997-02-28 Published:1997-02-28 Online:1997-02-28

摘要/Abstract

摘要： 本文综述了近年来国外电镀及化学镀磁记录介质薄膜的最新研究进展、电镀及化学镀镀液组成、工艺条件及其对薄膜性能的影响、存在问题及发展方向等．磁记录介质薄膜的制备，过去一直采用溅射方法，近年来国外开展了电镀及化学镀方法制备的研究．电镀方法包括水溶液电镀（如：Ｎｉ－Ｆｅ、Ｆｅ－Ｃｏ合金等）和非水溶液电镀（如Ｔｂ－Ｆｅ、Ｎｄ－Ｆｅ、Ｔｂ－Ｆｅ－Ｃｏ合金等），化学镀则是在Ｎｉ－Ｐ、Ｃｏ－Ｐ合金的基础上，通过添加其它金属盐，得到磁记录介质薄膜，如：Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ、Ｃｏ－Ｗ－Ｐ、Ｃｏ－Ｍｎ－Ｐ、Ｃｏ－Ｎｉ－Ｒｅ－Ｐ合金等

关键词: 电镀, 化学镀, 磁记录介质薄膜

Abstract: The current study situation for the magnetic recording media films produced by electroplating and electroless plating at aboard was summarized. The bath composition and operating conditions, the properties of the films were introduced. The problem to be solved for extending application of the films was suggested and thd further development was expected.

Key words: Electroplating, Electroless plating, Magnetic recording media films

中图分类号:

TQ153

安茂忠,杨哲龙,张景双,屠振密. 电镀及化学镀磁记录介质薄膜的最新进展[J]. 电化学（中英文）, 1997, 3(1): 92-98.

An Maozhong Yang Zhelong Zhang Jingshuang Tu Zhenmi . Status of Electroplated and Electroless plated Thin Film Media for Magnetic Recording[J]. Journal of Electrochemistry, 1997, 3(1): 92-98.

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