电化学(中英文) ›› 1998, Vol. 4 ›› Issue (2): 223-227. doi: 10.61558/2993-074X.2697
• 研究论文 • 上一篇 下一篇
高灿柱,鹿玉理,刘汝涛,陈方,李树本
收稿日期:
修回日期:
发布日期:
出版日期:
Gao Canzhu Lu Yuli Liu Rutao Chen Fang Li Shuben
Received:
Revised:
Online:
Published:
中图分类号:
TQ153.12
高灿柱, 鹿玉理, 刘汝涛, 陈方, 李树本. 缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究[J]. 电化学(中英文), 1998, 4(2): 223-227.
Gao Canzhu Lu Yuli Liu Rutao Chen Fang Li Shuben. Influence of Buffers on the Blectrodeposition of Nickel from a Watts Bath[J]. Journal of Electrochemistry, 1998, 4(2): 223-227.
导出引用管理器 EndNote|Ris|BibTeX
链接本文: https://electrochem.xmu.edu.cn/CN/10.61558/2993-074X.2697
https://electrochem.xmu.edu.cn/CN/Y1998/V4/I2/223