缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究

电化学（中英文） ›› 1998, Vol. 4 ›› Issue (2): 223-227.

缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究

高灿柱,鹿玉理,刘汝涛,陈方,李树本

山东大学环境工程系,中国科学院兰州化学物理研究所

收稿日期:1998-05-28 修回日期:1998-05-28 出版日期:1998-05-28 发布日期:1998-05-28

Influence of buffers on the electrodeposition of nickel from a Watts bath

Gao Canzhu Lu Yuli Liu Rutao Chen Fang Li Shuben

(Dep.of Env.Eng.Shandong Univ.Jinan,Shandong 25000)Li Shuben(Lanzhou Inst. of Chem. Phy. Chinese Acad. of Sci.Lanzhou,Gansu,730000)

Received:1998-05-28 Revised:1998-05-28 Published:1998-05-28 Online:1998-05-28

摘要/Abstract

摘要： 缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究①高灿柱鹿玉理刘汝涛陈方（山东大学环境工程系济南２５０１００）李树本（中国科学院兰州化学物理研究所兰州７３００００）电镀镍是量大面广的镀种，它作为镀铬、贵金属、仿金、枪黑、黑镍的底层，用途非常广泛［１］．在镀镍过程中，...

中图分类号:

TQ153.12

高灿柱, 鹿玉理, 刘汝涛, 陈方, 李树本. 缓冲剂对镀镍过程作用机理的研究[J]. 电化学（中英文）, 1998, 4(2): 223-227.

Gao Canzhu Lu Yuli Liu Rutao Chen Fang Li Shuben. Influence of buffers on the electrodeposition of nickel from a Watts bath[J]. Journal of Electrochemistry, 1998, 4(2): 223-227.

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Influence of buffers on the electrodeposition of nickel from a Watts bath

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