电化学(中英文) ›› 2007, Vol. 13 ›› Issue (2): 171-176. doi: 10.61558/2993-074X.1802
薛丽莉;许立坤;李庆芬;宋泓清;周文娟;陈光章;
XUE Li-li1,2,XU Li-kun2,LI Qing-fen1,SONG Hong-qing2 ZHOU Wen-Juan2, CHEN Guang-Zhang2
摘要: 应用电化学阻抗谱(EIS)和扫描振动电极技术(SVET)研究了碳钢基体上含人造缺陷的水性环氧铝粉涂层浸泡在3.5%NaCl溶液中的腐蚀电化学行为.结果表明,浸泡初期,涂层缺陷处为阳极活性区,涂层阻抗随时间延长逐渐降低,活性区逐渐扩展;之后,由于腐蚀产物的自修复作用使整个涂层/金属界面电化学反应活性降低,导致涂层阻抗快速增加.浸泡后期,由于腐蚀介质渗入到涂层/基体界面,出现了更多的阳极活性区,涂层产生破坏剥离.
中图分类号: