化学镀非晶态Ni-P层的初期沉积过程研究

电化学（中英文） ›› 1997, Vol. 3 ›› Issue (4): 433-437.

化学镀非晶态Ni-P层的初期沉积过程研究

迟毅,张磊,王毅坚,马茂元

哈尔滨工程大学化学工程系

收稿日期:1997-11-28 修回日期:1997-11-28 出版日期:1997-11-28 发布日期:1997-11-28

The Initial Process of Amophous Electroless Nickel

Chi Yi* Zhang Lei Wang Yijan Ma MaoYuan

(Harbin Engin. Univ., Harbin 150001)

Received:1997-11-28 Revised:1997-11-28 Published:1997-11-28 Online:1997-11-28

摘要/Abstract

摘要： 化学镀非晶态Ｎｉ－Ｐ镀层初期沉积过程和沉积层状态是影响结合强度的决定性因素．对不同基体材料初期沉积的观察发现，有些非晶态镀层的初期沉积中含有微晶．微晶的产生与否与基体材料以及镀层材料晶格的错配度有关，当镀层与基体材料点阵常数相差不大，镀层的初期沉积沿基体晶格外延生长出现微晶层，反之，点阵常数相差较大时，初期沉积物中未发现微晶．

关键词: 化学镀, 非晶态, 初期沉积过程, 结合强度

Abstract: The initial process and mophology of electroless nickel played a domination role in adhesive strenghth of EN coating. The structure of initial deposits on certain matrixes was observed by TEM analysis. The deposition of a extremaly fine grain film depended on relative contrast between a coating and a matrix in crystal lattice parameters. When the coating and matrix had similar srystal lattice parameters. A extremely fine grain film was obtained. On the contrary, when the crystal lattice parameters were very different, a amorphous structure was observed.

中图分类号:

O614.813

迟毅, 张磊, 王毅坚, 马茂元. 化学镀非晶态Ni-P层的初期沉积过程研究[J]. 电化学（中英文）, 1997, 3(4): 433-437.

Chi Yi Zhang Lei Wang Yijan Ma MaoYuan. The Initial Process of Amophous Electroless Nickel[J]. Journal of Electrochemistry, 1997, 3(4): 433-437.

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