用规整膜板对砷化镓的三维微结构图形加工刻蚀

doi:10.61558/2993-074X.1386

电化学（中英文） ›› 2000, Vol. 6 ›› Issue (3): 253-257. doi: 10.61558/2993-074X.1386

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用规整膜板对砷化镓的三维微结构图形加工刻蚀

黄海苟,孙建军,叶雄英,蒋利民,罗瑾,卢泽生,董申,田中群,周兆英,田昭武

厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室!化学系,物理化学研究所,福建厦门361005,厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室!化学系,物理化学研究所,福建厦门361005,清华大学精密仪器系!北京100084,厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室!化学系,物理化学研究所,福建厦门3610

收稿日期:2000-08-28 修回日期:2000-08-28 发布日期:2000-08-28 出版日期:2000-08-28

Three-dimensional Microfabrication on GaAs Using a Regular Patterns Mold

HUANG Hai_gou 1, SUN Jian_jun 1, YE Xiong_ying 2, JIANG Li_min 1, LUO Jin 1, LU Ze_sheng 3,DONG Shen 3,TIAN Zhong_qun 1,ZHOU Zhao_ying 2* ,TIAN Zhao_wu 1*

(1 State Key Lab for Phys.Chem.of the Solid Surf., Dept.of Chem., Xiamen Univ

Received:2000-08-28 Revised:2000-08-28 Online:2000-08-28 Published:2000-08-28

摘要/Abstract

关键词: 约束刻蚀剂层技术, GaAs, 捕捉剂, 微加工

中图分类号:

O646

黄海苟, 孙建军, 叶雄英, 蒋利民, 罗瑾, 卢泽生, 董申, 田中群, 周兆英, 田昭武. 用规整膜板对砷化镓的三维微结构图形加工刻蚀[J]. 电化学（中英文）, 2000, 6(3): 253-257.

HUANG Hai_gou 1, SUN Jian_jun 1, YE Xiong_ying 2, JIANG Li_min 1, LUO Jin 1, LU Ze_sheng 3, DONG Shen 3, TIAN Zhong_qun 1, ZHOU Zhao_ying 2 , TIAN Zhao_wu 1. Three-dimensional Microfabrication on GaAs Using a Regular Patterns Mold[J]. Journal of Electrochemistry, 2000, 6(3): 253-257.

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[1]	刘柱方. 镍表面三维微图形的复制加工[J]. 电化学（中英文）, 2004, 10(3): 249-253.
[2]	蒋利民, 田中群, 刘柱方, 毛秉伟, 黄海苟, 孙建军. 金属的电化学微区刻蚀方法[J]. 电化学（中英文）, 2002, 8(2): 139-147.
[3]	李浴春, 王喜莲, 韩竞科, 韩爱珍, 高元恺, 杨志伟. InGaAs薄膜电共沉积研究[J]. 电化学（中英文）, 2000, 6(4): 463-468.
[4]	祖延兵, 谢雷, 毛秉伟, 穆纪千, 谢兆雄, 田昭武, 孙立宁. 利用约束刻蚀剂层技术提高硅的刻蚀分辨率[J]. 电化学（中英文）, 1997, 3(1): 14-14.

用规整膜板对砷化镓的三维微结构图形加工刻蚀

Three-dimensional Microfabrication on GaAs Using a Regular Patterns Mold

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