玻碳电极上铜电沉积初期行为研究

电化学（中英文） ›› 2002, Vol. 8 ›› Issue (3): 263-268.

玻碳电极上铜电沉积初期行为研究

黄令,张睿,辜敏,杨防阻,许书楷,周绍民

厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室,福建厦门361005 ,固体表面物理化学国家重点实验室,福建厦门361005 ,固体表面物理化学国家重点实验室,福建厦门361005 ,固体表面物理化学国家

收稿日期:2002-08-28 修回日期:2002-08-28 出版日期:2002-08-28 发布日期:2002-08-28

Initial Stages of Copper Electrodeposition on Glassy Carbon Electrode

HUANG Ling,ZHANG Rui,GU Min,YANG Fang_zu,XU Shu_kai,ZHOU Shao_min

(Department of Chemistry,Xiamen University,State Key Laboratory for Physical Chemistry of the Solid Surface,Xiamen 361005,China

Received:2002-08-28 Revised:2002-08-28 Published:2002-08-28 Online:2002-08-28

摘要/Abstract

摘要： 运用循环伏安和计时安培法研究酸性镀铜溶液中硫酸和 2_巯基苯骈咪唑对铜电沉积初期行为的影响 .实验表明铜的电沉积经历了晶核形成过程 ,其电结晶按瞬时成核三维生长方式进行 ,硫酸对铜的电沉积具有加速作用 ,而 2_巯基苯骈咪唑对铜的电沉积起阻化作用 ,两者均不改变铜的电结晶机理

关键词: 铜电沉积, 电结晶, 硫酸, 2-巯基苯骈咪唑

Abstract: Initial stages of copper electrodeposition on glassy carbon electrode from acid sulphate solutions were studied using cyclic voltammetry and chronoamperometry.The electrolyte solution was a 0.05 mol.L -1 copper sulphate,1.4～1.8 mol.L -1 sulphuric acid containing 1 mg.L -1 2_mercaptobenzoimidazole,Results show that 2_mercaptobenzoimidazole produced an inhibition of the copper deposition,probably related to the adsorption,sulphuric acid promote copper electrodeposition.The initial deposition kinetics corresponded to a model including instantaneous nucleation and diffusion controlled growth.Addition of 2_mercaptobenzoimidazole and sulphuric acid did not change the initial nucleation of copper electrocrystallization,it increased the nucleation rate and the number density of nuclei at the surface.

Key words: Copper electrodeposition, Electrocrystallization, Sulphuric acid, 2_mercaptobenzoimidazole

中图分类号:

TQ153

黄令,张睿,辜敏,杨防阻,许书楷,周绍民. 玻碳电极上铜电沉积初期行为研究[J]. 电化学（中英文）, 2002, 8(3): 263-268.

HUANG Ling,ZHANG Rui,GU Min,YANG Fang_zu,XU Shu_kai,ZHOU Shao_min . Initial Stages of Copper Electrodeposition on Glassy Carbon Electrode[J]. Journal of Electrochemistry, 2002, 8(3): 263-268.

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