电化学(中英文) ›› 2022, Vol. 28 ›› Issue (4): 2103071. doi: 10.13208/j.electrochem.210307
Hao Wang, Xiao-Zhou Cao*(), Xiang-Xin Xue
摘要:
通过恒电位电沉积法在氯化胆碱-乙二醇(ChCl-EG)低共熔溶剂中成功制备了锑镀层。采用FTIR红外光谱和拉曼光谱分析了ChCl-EG低共熔溶剂内部的微观结构,采用循环伏安法研究了扫速、温度、浓度对Sb3+在ChCl-EG中的伏安行为的影响以及电化学还原规律。同时,采用计时电流法研究了Sb(III)在ChCl-EG中的电化学电结晶规律,采用SEM和XRD对电沉积产物进行表征。研究结果表明,ChCl-EG中存在大量氢键,并且Sb(III)的加入不会破坏ChCl-EG原有的分子结构;温度升高和增大浓度时Sb的沉积所需的过电位减小;343 K时Sb在钨电极上的成核方式为三维瞬时成核,施加沉积电位是Sb(III)发生电还原的主要驱动力,随着施加沉积电位的变化,电沉积产物的形貌发生变化。