电化学(中英文) ›› 2000, Vol. 6 ›› Issue (3): 258-264. doi: 10.61558/2993-074X.1387
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程璇,林昌健
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CHENG Xuan *, LIN Chang jian **
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关键词: 极化电阻, 铜沉积, 硅片/溶液界面
中图分类号:
O646
程璇, 林昌健. 半导体硅片的电化学研究(英文)[J]. 电化学(中英文), 2000, 6(3): 258-264.
CHENG Xuan , LIN Chang jian . Electrochemical Investigations of Semiconductor Silicon Wafers[J]. Journal of Electrochemistry, 2000, 6(3): 258-264.
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