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电化学(中英文) ›› 2000, Vol. 6 ›› Issue (3): 258-264.  doi: 10.61558/2993-074X.1387

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半导体硅片的电化学研究(英文)

程璇,林昌健   

  1. 厦门大学化学系!材料科学系,固体表面物理化学国家重点实验室,福建厦门361005,厦门大学化学系!材料科学系,固体表面物理化学国家重点实验室,福建厦门361005
  • 收稿日期:2000-08-28 修回日期:2000-08-28 发布日期:2000-08-28 出版日期:2000-08-28

Electrochemical Investigations of Semiconductor Silicon Wafers

CHENG Xuan *, LIN Chang jian **   

  1. (Dept. of Chem., ** Dept. of Materials Sci., State Key Lab. for Phys. Chem. of Solid Surf., Xiamen Univ., Xiamen 361005, China
  • Received:2000-08-28 Revised:2000-08-28 Online:2000-08-28 Published:2000-08-28

关键词: 极化电阻, 铜沉积, 硅片/溶液界面

中图分类号: