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电化学(中英文) ›› 1996, Vol. 2 ›› Issue (2): 198-201.  doi: 10.61558/2993-074X.3075

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卤离子对化学沉积镍的影响

韩克平,方景礼   

  1. 南京大学化学系应用化学研究所
  • 收稿日期:1996-05-28 修回日期:1996-05-28 发布日期:1996-05-28 出版日期:1996-05-28

Effect of Halide Ions on the Deposition of Electroless Nickel

Han Keping Fang Jingli   

  1. (Chem. Depart., Applied Chem. Inst., Nanjing University, Nanjing 210093
  • Received:1996-05-28 Revised:1996-05-28 Online:1996-05-28 Published:1996-05-28

关键词: 化学沉积镍, 卤离子, 电化学方法

中图分类号: