电化学(中英文) ›› 1996, Vol. 2 ›› Issue (2): 198-201. doi: 10.61558/2993-074X.3075
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韩克平,方景礼
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Han Keping Fang Jingli
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关键词: 化学沉积镍, 卤离子, 电化学方法
中图分类号:
TQ153.12
韩克平, 方景礼. 卤离子对化学沉积镍的影响[J]. 电化学(中英文), 1996, 2(2): 198-201.
Han Keping Fang Jingli. Effect of Halide Ions on the Deposition of Electroless Nickel[J]. Journal of Electrochemistry, 1996, 2(2): 198-201.
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