卤离子对化学沉积镍的影响

电化学（中英文） ›› 1996, Vol. 2 ›› Issue (2): 198-201.

卤离子对化学沉积镍的影响

韩克平,方景礼

南京大学化学系应用化学研究所

收稿日期:1996-05-28 修回日期:1996-05-28 出版日期:1996-05-28 发布日期:1996-05-28

Effect of Halide Ions on the Deposition of Electroless Nickel

Han Keping Fang Jingli

(Chem. Depart., Applied Chem. Inst., Nanjing University, Nanjing 210093

Received:1996-05-28 Revised:1996-05-28 Published:1996-05-28 Online:1996-05-28

摘要/Abstract

摘要： 用重量法测定了卤离子对化学沉积镍速度的影响．并借助电化学方法研究了卤离子对镍的化学沉积过程的极化曲线和稳定电位的影响．探讨了卤离子加速和稳定化学沉积镍的机理

关键词: 化学沉积镍, 卤离子, 电化学方法

Abstract: The effect of halide ions on the polarization curves and stationary potential of electroless nickel plating process were studied with electrochemical methods. The acceleration and stabilization mechanism of electroless nickel deposition by halide ions also has been discussed.

Key words: Electroless nickel deposition, Halide ions, Electrochemical methods

中图分类号:

TQ153.12

韩克平,方景礼. 卤离子对化学沉积镍的影响[J]. 电化学（中英文）, 1996, 2(2): 198-201.

Han Keping Fang Jingli . Effect of Halide Ions on the Deposition of Electroless Nickel[J]. Journal of Electrochemistry, 1996, 2(2): 198-201.

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