电化学(中英文) ›› 1996, Vol. 2 ›› Issue (3): 310-313. doi: 10.61558/2993-074X.1341
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韩克平,方景礼
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Han Keping;Fang Jingli
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关键词: 紫铜, 化学抛光, 光反射率, 表面形貌
中图分类号:
TG175.3
韩克平, 方景礼. 紫铜化学抛光的电化学研究[J]. 电化学(中英文), 1996, 2(3): 310-313.
Han Keping, Fang Jingli. Electrochemical Studies on Chemical Polishing of Copper[J]. Journal of Electrochemistry, 1996, 2(3): 310-313.
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