电化学(中英文) ›› 1998, Vol. 4 ›› Issue (4): 380-387.
曾跃,黄宏新,肖小明,廉世勋,姚素薇,郭鹤桐
Zeng Yue * Huang Hongxin Xiao Xiaoming Lian Shixun
摘要: 用失重法、阳极极化曲线、X光电子能谱(XPS)以及俄歇电子能谱(AES)研究了电沉积NiMoP合金镀层在5%NaCl溶液中的腐蚀特性.非晶态NiMoP合金镀层比晶态NiMoP合金镀层有较低的腐蚀速度.阳极极化曲线表明,NiMoP合金镀层中,镍的摩尔分数为0.719~0.868时,随镀层中磷含量的增加,腐蚀电位正移;而活化区的峰电流随镀层中钼含量的增加而增加.磷含量对活化区的峰电流以及钼含量对腐蚀电位的影响均很小.XPS和AES分析指出,经5%NaCl溶液中浸渍后,NiMoP合金镀层表面形成厚度约为50nm的氧化膜.这层氧化膜主要由Ni2O3,MoO3和PO43-等构成,其在电解质溶液和合金间起着阻挡层的作用.
中图分类号: