电化学(中英文) ›› 2009, Vol. 15 ›› Issue (1): 17-21. doi: 10.61558/2993-074X.1946
吴锋;刘亚栋;陈人杰;陈实;
WU Feng,LIU Ya-dong,CHEN Ren-jie,CHEN Shi
摘要: 应用磁控溅射法在N2气氛中制备LiBPON薄膜电解质,研究薄膜性能与沉积条件的关系,优化其制备条件.扫描电镜图显示其表面平整均匀致密,X射线衍射及交流阻抗测试分别表明该薄膜呈非晶态,室温离子电导率随溅射功率增大而减小,随N2压力增大而增大,最高达3.5×10-6S/cm;薄膜的沉积速率随溅射功率增大而增大,随N2压力增大而减小.N的结合对电解质的电化学性能有明显改善,作为薄膜锂电池电解质有良好的应用前景.
中图分类号: