电化学(中英文) ›› 2005, Vol. 11 ›› Issue (1): 42-45. doi: 10.61558/2993-074X.1611
辜志俊,赵雄超,郭琦龙,洪艳萍,邓群山,陈人欢
GU Zhi-jun~
摘要: 建立微机处理体系(包括线路、图形设计,光照点选择及活化处理等)与化学镀铜相结合的微细镀覆新技术.该技术可在Al2O3基底上获得性能良好的Cu镀层,其布线速率达 50mm/s,线分辨率 35μm,工艺简便,条件温和,为陶瓷微细镀覆开辟了新途径.
中图分类号: