硅基多孔氧化铝膜的AES多层结构分析和生长过程研究

doi:10.61558/2993-074X.1366

电化学（中英文） ›› 1999, Vol. 5 ›› Issue (4): 389-394. doi: 10.61558/2993-074X.1366

硅基多孔氧化铝膜的AES多层结构分析和生长过程研究

吴俊辉,邹建平,朱青,鲍希茂

南京大学物理系固体微结构物理国家重点实验室!南京210093,南京大学物理系固体微结构物理国家重点实验室!南京210093,南京大学物理系固体微结构物理国家重点实验室!南京210093,南京大学物理系固体微结构物理国家重点实验室!南京210093

收稿日期:1999-11-28 修回日期:1999-11-28 发布日期:1999-11-28 出版日期:1999-11-28

AES Multi_layer Structural Analysis of Si based Anodic Porous Alumina Films and Studies on Its Formation Mechanism

Wu Junhui * Zou Jianping Zhu Qing Bao Ximao National Laboratory of Solid State Microstructures and Dept of Phys., Nanjing Univ.,Nanjing 210093)

Received:1999-11-28 Revised:1999-11-28 Online:1999-11-28 Published:1999-11-28

摘要/Abstract

关键词: 阳极氧化, 硅基多孔氧化铝, AES, 多层结构

中图分类号:

TG174.4

吴俊辉, 邹建平, 朱青, 鲍希茂. 硅基多孔氧化铝膜的AES多层结构分析和生长过程研究[J]. 电化学（中英文）, 1999, 5(4): 389-394.

Wu Junhui Zou Jianping Zhu Qing Bao Ximao National Laboratory of Solid State Microstructures and Dept of Phys., Nanjing Univ., Nanjing 210093). AES Multi_layer Structural Analysis of Si based Anodic Porous Alumina Films and Studies on Its Formation Mechanism[J]. Journal of Electrochemistry, 1999, 5(4): 389-394.

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