(p-CH_3C_6H_4SO_3)_3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜

电化学（中英文） ›› 1999, Vol. 5 ›› Issue (1): 14-17.

(p-CH_3C_6H_4SO_3)_3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜

收稿日期:1999-02-28 修回日期:1999-02-28 出版日期:1999-02-28 发布日期:1999-02-28

Electrodeposition of Neodymium_Iron Group Alloy Films in( p _CH 3C 6H 4SO 3) 3Nd+DMF System

Liu Peng Tong Yexiang Yang Qiqin * Yang Yansheng

(School of Chem. and Chem. Engin., Zhongshan University, Guangzhou 510275

Received:1999-02-28 Revised:1999-02-28 Published:1999-02-28 Online:1999-02-28

摘要/Abstract

摘要： 本世纪３０年代Ａｕｄｒｅｉｔｈ等人基于分离稀土元素的目的，在某些有机溶剂电解液中用汞阴极电沉积了个别的稀土汞齐［１］．１９５４年Ｍｏｅｌｅｒ等在乙二胺中电沉积了Ｙ、Ｌａ和Ｎｄ（稀土含量只有５０％左右）［２］．随着电子和信息技术的发展，稀土合金功能薄膜...

Abstract: Neodymium p _toluenesulfonate was prepared and applied to the electrodepositon of neodymium_iron group alloy films. This salt has high solubility in DMF and can be dehydrated easily. Cyclic voltammograms of Pt electrode in ( p _CH 3C 6H 4SO 3) 3Nd+MCl 2(M=Fe,Co,Ni)+DMF indicated that the neodymiun_iron group alloys can be elcetrodeposited from this medium, the Nd_Fe,Nd_Co and Nd_Ni films were obtained by electrolysis at constant potential. The Nd_Fe,Nd_Co and Nd_Ni films are amorphous in which the rare earth contents are in the range of 15 at%～60 at% as analyzed by XRD and EDS. The Nd content in the deposited film increases with the shift of cathode potential to the negative direction. The deposited Nd_Co film has good soft magnetic properites and its crystallization temperature was determined as 468.3 ℃.

Key words: Neodymium p _toluenesulfonate, Alloy films of neodymium_iron group, Electrodeposition, Organic electrolytes

中图分类号:

TQ153.2

(p-CH_3C_6H_4SO_3)_3Nd+DMF体系中电沉积钕-铁族合金膜[J]. 电化学（中英文）, 1999, 5(1): 14-17.

Liu Peng Tong Yexiang Yang Qiqin * Yang Yansheng . Electrodeposition of Neodymium_Iron Group Alloy Films in( p _CH 3C 6H 4SO 3) 3Nd+DMF System[J]. Journal of Electrochemistry, 1999, 5(1): 14-17.

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