欢迎访问《电化学(中英文)》期刊官方网站,今天是

电化学(中英文) ›› 1996, Vol. 2 ›› Issue (2): 144-148. 

• 研究论文 • 上一篇    下一篇

一种测量聚合物/金属界面腐蚀电位分布的电化学新方法

林昌健, 卓向东, 陈纪东, 王辉, 胡荣宗, 宋毅, 谭建光   

  • 收稿日期:1996-05-28 修回日期:1996-05-28 出版日期:1996-05-28 发布日期:1996-05-28

Corosion Potential Imagingat the InterfaceofCoating/MetalbyaNewElectrochemicalTechnique

LIN  Chang-Jian, ZHUO  Xiang-Dong, CHEN  Ji-Dong, WANG  Hui, HU  Rong-Zong, SONG  Yi, TAN  Jian-Guang   

  • Received:1996-05-28 Revised:1996-05-28 Published:1996-05-28 Online:1996-05-28

摘要: 在绝大多数环境下,聚合物/金属界面的腐蚀破坏的本质是电化学过程,因此,不少电化学技术,包括直流稳态技术和交流阻抗技术等被广泛用于研究金属/聚合物界面的腐蚀破坏机制,评测有机涂层的耐蚀性能.然而,由于聚合物/金属界面腐蚀破坏的“闭塞”条件和聚合物膜层的高绝缘性,传统的电化学方法均不能直接获得聚合物/金属界面二维空间的腐蚀电位分布,难以直接研究聚合物/金属界面的腐蚀破坏过程及相关的影响因素.聚合物/金属界面腐蚀电位的测量有助于研究聚合物/金属等复合材料界面腐蚀破坏机理,评测有机聚合物涂覆层的耐蚀性能.本文提出一种微计算机控制的阵列电极技术,用于原位测量金属/聚合物界面电位分布.首次建立了8×8阵列电极和微机控制的阵列电极测量系统,可直接测量聚合物/金属界面腐蚀电位的二维分布.由此可深入研究有关腐蚀物种在聚合物相内传输过程,聚合物涂层的不均一性及缺陷分布,以及聚合物/金属界面腐蚀的发生、发展机制.应用阵列电极技术首次在原位获得聚合物涂层的缺陷分布及不均一性,并考查了聚合物涂层缺陷对诱导聚合物/金属界面腐蚀破坏的关系.阵列电极技术还首次提供了在聚合物/金属界面腐蚀破坏发展过程中阴、阳极同时存在,共同发展的直接的

关键词: 腐蚀电位显象, 聚合物/金属界面, 阵列电极技术, 涂层下腐蚀机理

中图分类号: