欢迎访问《电化学（中英文）》期刊官方网站，今天是
ICP刻蚀硅模板用于PDMS规则超疏水表面的制作
张润香;张玉龙;林华水;
PDMS Regularly Superhydrophobic Surfaces Prepared by ICP Etching Silicon Model
ZHANG Run-xiang1,ZHANG Yu-long2,LIN Hua-shui1*
电化学（中英文） . 2007, (3): 264 -268 . 

版权所有 © 《电化学（中英文）》编辑部
地址：福建省厦门市思明区厦门大学D信箱　邮编：361005
电话：0592-2181469　 传真：0592-2181469　 Email：dianhx@xmu.edu.cn
技术支持：北京玛格泰克科技发展有限公司