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研究论文

卤离子对化学沉积镍的影响

  • 韩克平
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  • 南京大学化学系应用化学研究所

收稿日期: 1996-05-28

  修回日期: 1996-05-28

  网络出版日期: 1996-05-28

Effect of Halide Ions on the Deposition of Electroless Nickel

  • Han Keping Fang Jingli
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  • (Chem. Depart., Applied Chem. Inst., Nanjing University, Nanjing 210093

Received date: 1996-05-28

  Revised date: 1996-05-28

  Online published: 1996-05-28

本文引用格式

韩克平 . 卤离子对化学沉积镍的影响[J]. 电化学, 1996 , 2(2) : 198 -201 . DOI: 10.61558/2993-074X.3075

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