欢迎访问《电化学（中英文）》期刊官方网站，今天是
铜在HOPG上电沉积过程的现场ECSTM研究
谢兆雄,毛秉伟,卓向东,穆纪,千田昭武
In Situ Studies of Copper Electrodepostion on HOPG by Using ECSTM
Xie Zhaoxiong Mao Bingwei Zhuo Xiangdong Mu Jiqian Tian Zhaowu
电化学（中英文） . 1996, (2): 164 -169 . 

版权所有 © 《电化学（中英文）》编辑部
地址：福建省厦门市思明区厦门大学D信箱　邮编：361005
电话：0592-2181469　 传真：0592-2181469　 Email：dianhx@xmu.edu.cn
技术支持：北京玛格泰克科技发展有限公司