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利用约束刻蚀剂层技术提高硅的刻蚀分辨率(英文)
祖延兵,谢雷,毛秉伟,穆纪千,谢兆雄,田昭武,孙立宁
电化学（中英文） . 1997, (
1
): 14 -14 .
