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铜在氨水介质铁氰化钾抛光液中CMP的电化学行为研究
胡岳华,何捍卫,黄可龙
Study on Electrochemical Behavior of Copper in NH_3·H_2O Solution Medium Including K_3 during CMP
HU Yue hua 1 , HE Han wei 2* ,H UANG Ke nong 2
电化学（中英文） . 2001, (4): 480 -486 . 

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