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高择优取向Cu电沉积层的XRD研究
辜敏,杨防祖,黄令,姚士冰,周绍民
XRD Study on Highly Preferred Orientation Cu Electrodeposit
GU Min 1,2 ,YANG Fang_zu 2,HUANG Ling 2,YAO Shi_bing 2,ZHOU Shao_min 2
电化学（中英文） . 2002, (3): 282 -287 . 

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