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离子液体中的真空一致电化学与氧化物外延相结合
松本雄司
电化学(中英文)    2025, 31 (6): 2415004-.   DOI:10.61558/2993-074X.3541
摘要   (3 HTML6 PDF(pc) (5262KB)(89)  

我们将最先进“真空一致电化学”技术引入到氧化物与离子液体(IL)界面的研究中。脉冲激光沉积(PLD)是实现纳米级制备高质量氧化物外延薄膜的强大而最精细的技术之一。另一方面,电化学是一种简单、非常灵敏且无损的固液界面分析技术。为了确保此类外延氧化物薄膜以及块状氧化物单晶与IL接口实验的可重复性,我们采用了自制的以IL为电解质的PLD电化学(EC)系统。该系统允许进行从制备定义明确的氧化物电极表面到其电化学分析的全真空实验。研究主题包括氧化物自身特性(如载流子密度和相对介电常数)的电化学评估,以及与IL接触的氧化物的界面特性(如平带电势和双电层电容),最后是对全固态电化学的未来展望。



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Figure 8. (a) Mott-Schottky plots of the 26 nm-thick ZnO and ZnO substrate of Fig. 7, and that of a 32 nm-thick MgZnO film. (b) Flat-band potentials and EDL capacitance values around the flat-band potential for the ZnO and MgZnO films plotted against their film thicknesses, respectively[98].
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