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研究论文

电沉积铜钴纳米多层膜的机理研究

  • 薛江云
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  • 北京科技大学表面科学与腐蚀工程系

收稿日期: 1997-11-28

  修回日期: 1997-11-28

  网络出版日期: 1997-11-28

Mechanism of Electrodeposition of Cu/Co Multilayer Thin Films

  • Xue Jiangyun Wu Jixun Yang Dejun
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  • (Department of Surface Science and Corrosion Engineering University of Science and Technology, Beijing, Beijing 100083)

Received date: 1997-11-28

  Revised date: 1997-11-28

  Online published: 1997-11-28

本文引用格式

薛江云 . 电沉积铜钴纳米多层膜的机理研究[J]. 电化学, 1997 , 3(4) : 401 -407 . DOI: 10.61558/2993-074X.2663

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