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研究论文

化学镀镍磷合金镀层孔隙率的电化学评价

  • 俞宏英 ,
  • 孙冬柏 ,
  • 黄锦滨 ,
  • 杨德钧
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  • 北京科技大学表面科学与腐蚀工程系!北京100083,北京科技大学表面科学与腐蚀工程系!北京100083,北京科技大学表面科学与腐蚀工程系!北京100083,北京科技大学表面科学与腐蚀工程系!北京100083

收稿日期: 2000-08-28

  修回日期: 2000-08-28

  网络出版日期: 2000-08-28

Electrochemical Evaluation on the Porosity of Electroless Ni-P Alloy Coatings

  • Yu Hong_ying ,
  • Sun Dong_bai ,
  • Huang Jing_bing ,
  • Yang De_jun
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  • (Dept. of Surface Science and Corrosion Engi. Coll. of Materials Science and Engi. Beijing Univ. of Science and Tech.,Bejing 100083,China

Received date: 2000-08-28

  Revised date: 2000-08-28

  Online published: 2000-08-28

本文引用格式

俞宏英 , 孙冬柏 , 黄锦滨 , 杨德钧 . 化学镀镍磷合金镀层孔隙率的电化学评价[J]. 电化学, 2000 , 6(3) : 335 -340 . DOI: 10.61558/2993-074X.1395

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