高择优取向Cu电沉积层的XRD研究
收稿日期: 2002-08-28
修回日期: 2002-08-28
网络出版日期: 2002-08-28
XRD Study on Highly Preferred Orientation Cu Electrodeposit
Received date: 2002-08-28
Revised date: 2002-08-28
Online published: 2002-08-28
辜敏 , 黄令 , 姚士冰 , 周绍民 . 高择优取向Cu电沉积层的XRD研究[J]. 电化学, 2002 , 8(3) : 282 -287 . DOI: 10.61558/2993-074X.3298
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